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一、真空爐熱處理爐用途

真空爐熱處理適用于稀土制備、電子照明、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、精密鑄造、金屬熱處理等行業(yè)進(jìn)行真空燒結(jié)、氣氛保護(hù)燒結(jié)、真空鍍膜、cvd實(shí)驗(yàn)、物質(zhì)成分測量等。

二、真空爐熱處理爐特點(diǎn)

1、加熱元件360度均布，爐溫均勻性高，冷室監(jiān)控標(biāo)配。

2、該設(shè)備分熱室和冷室，生產(chǎn)效率高，使用成本低。

3、淬火油槽安  裝攪拌器（可調(diào)速），工件變形小，冷卻均勻性高，操作簡捷，編程工藝可多步輸入，    機(jī)械動作穩(wěn)定，手動/自動控制，故障自動報警/顯示。

三、真空爐熱處理爐參數(shù)型號加熱有效區(qū)裝爐量加熱元件加熱功率最高溫度均溫性極限真空度壓升率氣冷壓強(qiáng) mmkgωkw℃±℃papa/hbartdrg2-644600×400×400200石墨/鉬70132054.0e-1/6.7e-3≤0.60≤2tdrg2-755750×500×500300石墨/鉬80tdrg2-966900×600×600500石墨/鉬120tdrg2-12881200×800×800800石墨/鉬240注：可根據(jù)用戶要求另行設(shè)計制造，更多規(guī)格及參數(shù)和詳細(xì)技術(shù)方案請來電咨詢！